新世纪之后，电子束直写技术在芯片领域的应用大部分局限于科研和掩膜领域。

在电子芯片日益复杂的未来，加工一枚芯片的平均时间已经增长到了七个小时，如果芯片构造特别复杂加工一枚芯片的时间甚至高达六、七十个小时。

不过在九十年代，还有企业或研发机构试图用多光速同时加工的方式来突破电子束生产效率低下的桎梏。

比如通过多光源和多透镜使得同时工作的电子束高达上千束。

就算上千束电子束同时工作，在九十年代芯片结构比较简单的时代也只是堪堪追上曝光式光刻机的生产效率而已，不过多光束电子束光刻机三倍于曝光式光刻机的昂贵成本依旧打不开光刻机的主流市场。

当然，由于可以直接加工晶圆的缘故，电子束直写技术是加工曝光式光刻机掩膜模板的最佳技术。

王欣、刘飞扬、聂晓天三人一人数句的把光刻机市场的技术前景和大致的阵营和梁远一一的介绍了一遍。

最后，王欣总结着说道:“大少也知道，真论起研发力量我们和主流大厂肯定没法比，港基集电顺利发展到现在，有大半发展机遇是大少抓住国内特殊国情，利用时间差成品差的战略在撑着，光刻机是产线最核心的设备，多路研发就算我们有钱，人也是不够的。”

王欣停顿了一下，继续说道:“我们内部已经快要达成共识，大部分人都赞同走193nm光源的技术路线，一个原因是193nm光源应用很广，在医疗、工业、科教等领域都有着很广泛的应用，可以大幅度的降低研发成本，还一个原因就是从产业前沿传来的消息，193nm之后的光源研发很不顺利，有大概率会卡住几年，对于我们这种落后一方来说，这个机会十分的难得，有追上国际一线水准的可能。”

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