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第六十六章 磁流变抛光

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舜羽光学新下的订单,也就是全新的抛光工艺,包含超光滑抛光和超精密抛光两种。

这两种抛光,字面上看差不多,但还是有区别的。

超光滑抛光,是指零部件被抛光后,表面的粗糙度不高于纳米级别。目前这一领域,世界上的技术级别,从0.1纳米到几十纳米不等。

而超精密抛光,是指抛光的精度达到分子或者原子级别的刨除,或者说加工精度为纳米级别。

两者的区别就在于:超光滑抛光侧重于抛光后表面的光滑度;超精密抛光,侧重于抛光后表面与形状达到设计精度。

新的工艺与配套设备的开发,首先得确认工艺流程,然后,再开发配套的加工设备。

但是,在确认新的工艺时,又得按照现有制造技术,确认能开发配套的加工设备为前提。

否则,光设计了全新的生产工艺,却无法制造出配套设备,那这种工艺也就只能当做技术储备。

实验室。

“老板,零件打造好了。”

王坤将陈鸿需要的零部件,送了过来。

“好,邓易,你去把零部件安装上。”

“好的,老板。”

“王组长,给我吧。”

邓易双手带着特制手套,小心的接过王坤手里的零部件。

陈鸿和邓易小组所做的工作,就是为舜羽光学研发的新工艺。

他现在选用的,是以磁流变抛光为主的抛光模式。这种抛光技术,对光滑抛光和精密抛光,都是适用的。

磁流抛光,是上个世纪末才发展出来的一种新型抛光技术。

这是利用磁流抛光液在磁场中的磁流变形成柔性抛光模,对玻璃表面进行抛光。

目前的抛光精度,已经达到1nwww

“子明,你按照这份制备技术去试制磁流抛光液。明远,你负责另一组的试制。”

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